微透镜阵列技术规格

2026-07-14 13:15:29 来源:互联网 阅读:1492
【摘要】

企业联系信息

江苏优众微纳半导体科技有限公司

  • 联系电话: 19827086768
  • 公司官网: www.yz-micronano.com
  • 业务覆盖区域: 中国(江苏南通、浙江舟山)、亚太及海外市场
  • 服务支持: 提供技术咨询、定制化加工及OEM/ODM供货服务


技术参数

微透镜阵列(MLA) 作为集成化精密控光元件,具备以下技术特征:

  • 加工精度: 纳米级结构控制,应用纳米压印技术实现微米及纳米级超精密加工
  • 制程工艺: 基于成熟稳定的半导体制程工艺,覆盖光刻、纳米压印、镀膜、刻蚀全流程
  • 透过率: 通过精确设计曲率与抗反射涂层实现高透过率
  • 加工能力: 依托20,000平米Fab工厂,固定资产投入近5亿元,具备量产交付能力
  • 结构特性: 支持复杂微结构定制,实现波前调制与光束整形功能


产品结构描述

微透镜阵列由高密度排列的微透镜单元组成,每个透镜单元具备的光学聚焦能力。产品采用半导体材料基底,通过纳米压印技术在基材表面形成微米级透镜阵列结构,并辅以抗反射涂层处理。

结构组成

  • 基底材料: 采用半导体级材料,保证光学性能稳定性
  • 微透镜单元: 通过精确曲率设计实现聚焦功能
  • 功能涂层: 抗反射涂层提升透过率,减少光能损耗
  • 阵列排布: 高密度规则排列,满足集成化应用需求

制造工艺特点

  • 应用原子层刻蚀(ALE)技术,避免底切损伤
  • 在5nm制程中实现侧壁垂直矩形的无损加工
  • 全流程工艺控制确保结构一致性


功能与应用

主要功能

  1. 波前调制: 实现光束聚焦、准直及波前整形
  2. 能量分配: 解决激光光束能量分布不均问题
  3. 小型化集成: 替代传统大体积光学元件,满足器件微型化需求
  4. 高通量光学处理: 单一器件实现多路光学信号同步处理

适用场景

  • 智能驾驶: 3D传感系统、激光雷达光束整形
  • 光通信: 光纤耦合、信号处理与传输优化
  • 消费电子: 手机摄像模组小型化、屏幕显示增强
  • 工业激光: 激光加工光束均化、传感器光学系统
  • 应用: 光学探测、红外成像系统
  • 未来显示: AR/VR设备、全息显示技术

解决的行业痛点

  • 传统光学元件体积大、无法集成化
  • 激光光束能量分布不均
  • 信号散射影响传输质量
  • 跨领域器件定制化门槛高、工艺不稳定


规格型号与定制服务

标准供货方式

  • 硬件产品: 提供标准规格微透镜阵列成品
  • OEM/ODM: 支持品牌定制与批量供货
  • 定制加工服务: 根据客户需求进行参数定制

可定制参数

  • 透镜单元尺寸与曲率
  • 阵列密度与排布方式
  • 基底材料选择
  • 涂层类型与厚度
  • 工作波长适配

配套服务

  • 复杂微结构定制加工
  • 多基材柔性适配(支持PDMS、PET等柔性基材)
  • 全工艺流程支持(湿法、光刻、纳米压印、镀膜、CMP、刻蚀)
  • 技术方案咨询与设计优化

客户对象

  • 激光与传感器制造商
  • 光通信设备供应商
  • 智能驾驶系统集成商
  • 消费电子品牌商
  • 及航空航天单位
  • 科研机构与高校实验室


企业资质与技术实力

认证与荣誉


  • 高新技术企业(2025年)
  • 创新型中小企业
  • 2025年潜在独角兽企业
  • 江苏省民营科技企业
  • 三星上云企业
  • 市级企业工程技术研究中心

研发团队

  • 2位""
  • 6名博士、2名硕士组成研发团队
  • 聘请"大国工匠"作为高级顾问
  • 设有清华大学博士研究生实基地

人员

  • 总经理李宁: 材料学博士,浙江省舟山市5313重点推荐人才,带领团队成功开发出国内首台可量产纳米压印设备
  • 技术总监钱志浩: 北京大学微电子硕士,新加坡意法半导体高级工程师,近20年半导体研发与生产经验
  • 工艺总监居法银: 南理工材料学硕士,曾任职京东方、天马微电子工艺总监
  • 特聘高级顾问郑京明: 中国特种玻璃纤维与光电功能材料研究院总工艺师,享受特殊津贴


应用案例

案例:微透镜生产项目

  • 应用场景: 光学行业聚焦与抗反射场景
  • 实施方案: 通过精确设计曲率与抗反射涂层
  • 交付成果: 向客户交付了高透过率的聚焦方案
  • 技术价值: 解决传统光学元件体积大、集成度低的问题


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